Püskürtme Hedefi

Tungsten Dairesel Püskürtme Hedefleri

Tungsten Dairesel Püskürtme Hedefleri Açıklaması Yaygın olarak kullanılan bir hedef malzemesi olan tungsten, X-ışını tüplerinde önemli bir rol oynar. Katot çalışma sıcaklığı yaklaşık 2000K'dir.

Sorguya Ekle
Yüksek Saflıkta Tungsten Yuvarlak Hedefler

Yüksek Saflıkta Tungsten Yuvarlak Hedefler Açıklama Yüksek Saflıkta Tungsten Yuvarlak Hedefler, berilyum pencerelerine kıyasla en yaygın kullanılan hedef malzemelerdir. Yüksek atom katsayılarına,

Sorguya Ekle
PVD 4N Nikel Püskürtme Hedefi

PVD 4N Nikel Püskürtme Hedefi Açıklama PVD 4N Nikel Püskürtme Hedefi, yüksek güç ve yüksek frekanslı akıma sahip elektronik cihazlar için mükemmel iletkenliğe ve parçacık minimizasyonuna sahip ince

Sorguya Ekle
Titanyum Alüminyum Yuvarlak Hedefler

Titanyum Alüminyum Yuvarlak Hedefler Açıklama Titanyum Alüminyum Yuvarlak Hedefler, vakumlu kaplama için yaygın olarak kullanılan metal hedeflerdir. Titanyum ve alüminyum içeriğinin harmanlanmasıyla

Sorguya Ekle
Yüksek Saflıkta Bor Hedefleri

Yüksek Saflıkta Bor Hedefleri Özellikler ve Uygulama Kaplama hedefi, uygun teknolojik koşullar altında magnetron püskürtme, çok arklı iyon kaplama veya diğer kaplama sistemleri türleri ile altlık

Sorguya Ekle
% 99.99 nikel yuvarlak hedef

% 99.99 Nikel Yuvarlak Hedef Açıklama Püskürtme hedefi, püskürtme biriktirme işleminde kullanılan hammaddeyi ifade eder. Hedefin yüksek enerjili parçacık bombardımanı nedeniyle atomların katı

Sorguya Ekle
Saf Nikel Metal Hedef

Saf Nikel Metal Hedef Tanımı Nikel, manyetik özelliklere ve iyi plastisiteye sahip, çoğunlukla alaşımlarda (nikel çelik ve nikel gümüş gibi) ve hidrojenasyon katalizörü olarak kullanılan gümüş-beyaz

Sorguya Ekle
Nikel Ni Püskürtme Hedefi

Nikel Ni Püskürtme Hedefi Özellikler ve Uygulama Nikel, iyi sünekliğe, tokluğa ve yüksek erime noktasına sahip gümüş-beyaz metalik bir elementtir. Endüstride nikel yaygın olarak alaşım hazırlamada,

Sorguya Ekle
%99,99 Nikel Püskürtme Hedefleri

%99,99 Nikel Püskürtme Hedefleri Açıklama Hedef malzeme, fiziksel buhar biriktirme (PVD) veya kimyasal buhar biriktirme (CVD) sürecinde püskürtme veya buharlaşma kaynağı olarak kullanılan malzemedir

Sorguya Ekle
Yüksek Saflıkta 4N Nikel Püskürtme Hedefi

Yüksek Saflıkta 4N Nikel Püskürtme Hedefi Açıklama Yüksek Saflıkta 4N Nikel Püskürtme Hedefi, toz metalurjisi ve dövme parlatma sonrasında yüksek saflıkta nikel malzemeden yapılmıştır. Püskürtme,

Sorguya Ekle
Krom Döner Püskürtme Hedefi

Krom Döner Püskürtme Hedefi Açıklama Krom, iyi bir oksidasyon direncine ve korozyon direncine sahiptir ve metali daha fazla korozyondan korumak için doğal ortamda stabil bir oksit filmi

Sorguya Ekle
Zirkonyum 702 Yuvarlak Püskürtme Hedefi

Zirkonyum 702 Yuvarlak Püskürtme Hedefi Açıklama İnce film biriktirme (kaplama), alt tabakanın özelliklerinin belirli öğelerini değiştirmek veya geliştirmek için kullanılabilen alt tabaka malzemeleri

Sorguya Ekle

Çin'in önde gelen püskürtme hedef üreticilerinden ve tedarikçilerinden biri olarak tanınıyoruz. Rekabetçi fiyat ile yüksek kaliteli püskürtme hedefi satın alacaksanız, fabrikamızdan teklif almaya hoş geldiniz. Ayrıca, özelleştirilmiş servis mevcuttur.

(0/10)