Bor Püskürtme Hedefi

Bor Püskürtme Hedef Tanımı

Püskürtme işlemi, esas olarak, ultra yüksek saflıkta püskürtülmüş metal veya oksit malzemeden ince bir filmi başka bir katı alt tabaka üzerine biriktirmek ve iyon bombardımanı ile hedef malzemenin çıkarılmasını ve yönlendirilmiş bir gaz/plazma fazına dönüştürülmesini kontrol etmektir. Bor, güneş sisteminde ve yer kabuğunda düşük miktarda bulunan bir elementtir. Oda sıcaklığında zayıf, yüksek sıcaklıkta iyi bir iletkendir. Bor Püskürtme Hedefi mükemmel fiziksel ve kimyasal özelliklere, yüksek erime noktasına, en küçük ortalama tane boyutuna, yüksek sıcaklık korozyon direncine, iyi dayanıklılığa, iyi elektriksel iletkenliğe ve yüksek maliyet performansına sahiptir. Mükemmel hazırlama malzemelerinin bir kimyasal buhar biriktirme (CVD) ve fiziksel buhar biriktirme (PVD) ) işlemidir. Bor Püskürtme Hedefleri, başta nükleer endüstri, cam kaplama endüstrisi, elektronik bilgi endüstrisi, kimya endüstrisi, biyotıp, havacılık endüstrisi, üst düzey dekoratif ürünler ve metal eritme endüstrisi vb.

Bor Püskürtme Hedef Özellikleri:

Bor Püskürtme Hedef Resimleri:

Popüler Etiketler: bor püskürtme hedefi, tedarikçiler, üreticiler, fabrika, özelleştirilmiş, toptan satış, fiyat, teklif, satılık