Metal püskürtme hedefleri esas olarak entegre devreler, bilgi depolama, LCD ekranlar, lazer hafızaları, elektronik kontrol cihazları vb. gibi elektronik ve bilgi endüstrilerinde kullanılır. Ayrıca cam kaplama, aşınmaya dayanıklı alet alanında da yaygın olarak kullanılabilirler. imalat ve yüksek sıcaklıkta işleme endüstrileri. , üst düzey dekoratif malzemeler ve diğer endüstriler. FANMETAL, demir dışı metal ürünlerin üretiminde uzun yıllara dayanan deneyime sahiptir ve aynı zamanda gelişmiş işleme ekipmanlarına da sahiptir. gibi yüksek kaliteli ve uygun maliyetli metal veya alaşımlı hedef ürünleri yurt içi ve yurt dışındaki müşterilerine sunabilmektedir.nikel hedefleri, krom hedefleri, molibden hedefleri, tungsten hedefleri,Titanyum Alüminyum Püskürtme Hedefleri,vesaire.
1. Saflık
Tüm metaller için saflık, hedef malzemenin ana performans göstergelerinden biridir. Hedef malzemenin saflığının filmin performansı üzerinde büyük etkisi vardır. Ancak gerçek uygulama ekipmanına bağlı olarak hedef malzemenin saflık gereksinimleri de farklıdır. Örneğin, yüksek hassasiyetli elektronik ekipmanlarda yüksek saflıkta kaplama hedefleri gereklidir.
2. Safsızlık içeriği
Bir dizi hedef prosesten sonra, hedef katıdaki safsızlıklar ve gözeneklerdeki oksijen ve su buharı, biriktirilen filmler için ana kirlilik kaynaklarıdır. Kullanımları farklı olduğundan, farklı kullanımlara yönelik hedeflerin de farklı safsızlık içerikleri için farklı gereksinimleri vardır. Örneğin, yarı iletkenlerde kullanılan mevcut saf alüminyum ve alüminyum alaşımlı hedeflerin alkali metal içeriği ve radyoaktif element içeriği açısından özel gereksinimleri vardır.
3.Yoğunluk
Hedef teknoloji prosesinde, hedef katıdaki gözeneklerin azaltılması ve püskürtme filmin performansının arttırılması için genellikle hedef malzemenin daha yüksek yoğunluğa sahip olması gerekmektedir. Çünkü hedefin ana karakteristik yoğunluğunun püskürtme hızı üzerinde büyük etkisi vardır ve filmin elektriksel ve optik özelliklerini etkiler. Hedef yoğunluğu ne kadar yüksek olursa filmin performansı da o kadar iyi olur.
4. Tane büyüklüğü ve tane büyüklüğü dağılımı
Genellikle hedef malzeme çok kristalli bir yapıya sahiptir ve tane boyutu mikrondan milimetreye kadar değişebilir. Aynı hedef malzeme için, ince taneli bir hedefin püskürtme hızı iri taneli bir hedefin püskürtme hızından daha hızlıdır; daha küçük tane boyutu farkına (düzgün dağılım) sahip bir hedef, püskürtme yoluyla biriktirilen filmin daha düzgün bir kalınlık dağılımına sahip olacaktır.
